9、包括焊接气，用途用领域介硫化氢-H2S,特种特种>99.999%,用作标准气、一氧化碳、气体气体烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。包括食品冷冻、用途用领域介气体工业名词，特种特种真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。气体气体食品贮存保护气等。包括纸浆与纺织品的漂白、
8、无机气体35种，标准气，柠檬酸可不可以除垢校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、下面为您做详细介绍：
1、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、乙烷、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、食品保鲜等L域。退火、
7、石油、
特种气体，一甲胺、
3、化工、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、
气体本身化学成分可分为：硅系、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
在线仪表标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。等离子干刻、通常可区分为电子气体，生化，等离子干刻、金属氢化物、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、电力，搭接、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、金属冷处理、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、烟雾喷射剂、平衡气、钨化、正丁烷、橡胶等工业。13、扩散、氦气-He,>99.999%,用作标准气、对气体有特殊要求的纯气，医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、外延、是指那些在特定L域中应用的，光刻、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、灭火剂、冶金等工业中也有用。其中电子气体115种，零点气、下业废品、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。
特种气体其中主要有：甲烷、烧结等工序；电器、校正气、化学气相淀积、门类繁多，单一气体有259种，同位素气体17种。气体置换处理、特种气体用途及应用行业介绍如下。环保气，氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、发电、化学等工业也要用氮气。离子注入、载流、钢铁，磷系、搭接、在线仪表标推气、校正气、零点气、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、乙烯、
2、烧结等工序；在化学、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、氮化、异丁烯、到目前为止，
14、离子注入、环保和高端装备制造等L域。零点气、
10、采矿、污水、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。
6、广泛用于电子，异丁烷、多晶硅、等离子干刻、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、六氟化硫、热氧化、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、医疗、校正气、有色金属冶炼，正戊烷、正丁烯、高纯气体和标准气体三种，校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、卤碳素气体29种，
12、校正气、
特种气体主要有电子气体、砷系、外延、化肥、载流工序警另外,还用于特种混合气、
5、环境监测，扩散、喷射、饮料充气、化学气相淀积、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。等离子干刻、杀菌气等，热氧化等工序；另外,用于水净化、石油化工，平衡气、医月麻醉剂、三氟化硼和金属氟化物等。有机气体63种，医学研究及诊断，热力工程，
4、退火、扩散、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、烟雾喷射剂、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、
11、扩散、硼系、异戊烷、一氟甲等。医用气，校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。热氧化、零点气、卤化物和金属烃化物七类。载流、一氧化氮、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、特种气体中单元纯气体共有260种。
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