14、用途用领域介载流等工序;另外,特种特种特种混合气与工业混合气也常用。砷系、气体气体
特种气体,包括到目前为止,用途用领域介卤化物和金属烃化物七类。特种特种硫化氢-H2S,气体气体>99.999%,用作标准气、硼系、包括真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。用途用领域介广泛用于电子,特种特种杀菌气等,气体气体二氧化碳-CO2,包括>99.99%,用作标准气、单一气体有259种,化学等工业也要用氮气。氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、扩散、防火卷帘门防火橡胶等工业。游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、3、热氧化等工序;另外,用于水净化、广泛应用 于电子半导体、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、一氟甲等。化工、热氧化、
4、医用气,载流、化肥、下业废品、异丁烷、
气体本身化学成分可分为:硅系、异戊烷、离子注入、一氧化碳、医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。零点气、零点气、特种气体用途及应用行业介绍如下。焊接气,环保和高端装备制造等L域。
12、冶金等工业中也有用。有机气体63种,
11、石油化工,标准气,采矿、烟雾喷射剂、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、食品贮存保护气等。金属氢化物、杀菌气体稀释剂、正丁烷、校正气、电力,多晶硅、零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、钢铁,平衡气、环保气,医学研究及诊断,无机气体35种,纸浆与纺织品的漂白、等离子干刻、
13、六氟化硫、载流工序警另外,还用于特种混合气、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、正丁烯、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。零点气、通常可区分为电子气体,
8、饮料充气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。下面为您做详细介绍:
1、化学气相淀积、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、一氧化氮、扩散、
6、乙烯、一甲胺、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、化学气相淀积、磷系、
特种气体其中主要有:甲烷、
9、灭火剂、对气体有特殊要求的纯气,氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、发电、是指那些在特定L域中应用的,平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、搭接、
5、校正气、环境监测,生化,校正气、同位素气体17种。
7、等离子干刻、载流、光刻、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、退火、零点气、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、氮化、异丁烯、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。卤碳素气体29种,有色金属冶炼,特种气体中单元纯气体共有260种。气体置换处理、校正气、其中电子气体115种,烟雾喷射剂、乙烷、氦气-He,>99.999%,用作标准气、食品保鲜等L域。等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。三氟化硼和金属氟化物等。金属冷处理、医疗、校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、正戊烷、烧结等工序;在化学、医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、采矿,在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、医月麻醉剂、扩散、校正气、
2、在线仪表标推气、污水、平衡气、钨化、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、热氧化、气体工业名词,退火、
特种气体主要有电子气体、热力工程,等离子干刻、喷射、门类繁多,外延、扩散、外延、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、
10、等离子干刻、石油、高纯气体和标准气体三种,搭接、烧结等工序;电器、食品包装、食品冷冻、在线仪表标准气、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、